Escáner Galvo 2D para marcado láser | Soldadura | Corte | Limpieza | Serie G3
Descripción e introducción
El escáner Galvo G3 Ult II adopta múltiples medidas antiinterferencias, ofreciendo una sólida inmunidad del sistema, alta fiabilidad, buena linealidad, alta repetibilidad y un corto tiempo de respuesta. El sistema utiliza un diseño integrado de tamaño compacto, peso ligero y excelente sellado, lo que garantiza la estabilidad durante el funcionamiento prolongado.
El escáner Galvo G3 Std es un módulo de escaneo óptico de alta velocidad, estable y de alta precisión, ampliamente utilizado en aplicaciones como marcado láser de materiales, corte láser, soldadura láser, impresión 3D, limpieza láser, materiales para conductos de cables de vuelo, escaneo rápido de códigos QR, entre otras. Es ideal para aplicaciones de gama media y alta.
El escáner galvánico G3 Base es un módulo de escaneo óptico versátil con excelente relación calidad-precio y un excelente rendimiento de procesamiento. Se utiliza ampliamente en industrias como el marcado láser de materiales, el corte láser, la soldadura láser, la impresión 3D y la limpieza láser, y es adecuado para aplicaciones estándar de procesamiento láser.
Imágenes del producto
G3 Ult II
Estándar G3
Base G3
Presupuesto
| Configuraciones | ||
| Escáner | Diámetro de entrada | 10 milímetros |
| Error de seguimiento | 0,11 ms | |
| Velocidad de marcado | 8000 mm/s | |
| Velocidad de posicionamiento | 15000 mm/s | |
| 1% de escala completa | 0,26 ms | |
| 10% de escala completa | 0,62 ms | |
| Repetibilidad | < 2 μrad | |
| Deriva de ganancia | < 100 ppm/K | |
| Deriva de compensación | < 25 μrad/K | |
| Deriva durante 8 h | < 0,1 mrad | |
| No linealidad | < 0,4% | |
| Ángulo de escaneo | ± 0,35 rad | |
| Interfaz | XY2-100 | |
| Longitud de onda | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| Básico | Fuerza | ± 15 V CC, 5 A |
| Peso | 2100 gramos | |
| Temperatura de trabajo | 25 ± 10 °C | |
| Configuraciones | ||
| Escáner | Diámetro de entrada | 10 milímetros |
| Error de seguimiento | 0,11 ms | |
| Velocidad de marcado | 10000 mm/s | |
| Velocidad de posicionamiento | 16000 mm/s | |
| 1% de escala completa | 0,26 ms | |
| 10% de escala completa | 0,62 ms | |
| Repetibilidad | < 2 μrad | |
| Deriva de ganancia | < 100 ppm/K | |
| Deriva de compensación | < 25 μrad/K | |
| Deriva durante 8 h | < 0,15 mrad | |
| No linealidad | < 1% | |
| Ángulo de escaneo | ± 0,35 rad | |
| Interfaz | XY2-100 | |
| Longitud de onda | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| Básico | Fuerza | ± 15 V CC, 3 A |
| Peso | 1800 gramos | |
| Temperatura de trabajo | 25 ± 10 °C | |
| Configuraciones | ||
| Escáner | Diámetro de entrada | 10 milímetros |
| Error de seguimiento | 0,2 ms | |
| Velocidad de marcado | 5000 mm/s | |
| Velocidad de posicionamiento | 10000 mm/s | |
| 1% de escala completa | 0,32 ms | |
| 10% de escala completa | 1,2 ms | |
| Repetibilidad | <2 μrad | |
| Deriva de ganancia | < 150 ppm/K | |
| Deriva de compensación | < 50 μrad/K | |
| Deriva durante 8 h | < 0,2 mrad | |
| No linealidad | < 1% | |
| Ángulo de escaneo | ± 0,35 rad | |
| Interfaz | XY2-100 | |
| Longitud de onda | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| Básico | Fuerza | ± 15 V CC, 3 A |
| Peso | 1800 gramos | |
| Temperatura de trabajo | 25 ± 10 °C | |
