2D गैल्वो स्कैनर लेज़र मार्किंग | वेल्डिंग | कटिंग | सफाई | G3 सीरीज़
विवरण और परिचय
G3 Ult II गैल्वो स्कैनर कई हस्तक्षेप-रोधी उपायों को अपनाता है, जिससे मज़बूत सिस्टम इम्युनिटी, उच्च विश्वसनीयता, अच्छी रैखिकता, उच्च पुनरावृत्ति और कम प्रतिक्रिया समय मिलता है। यह सिस्टम छोटे आकार, हल्के वज़न और उत्कृष्ट सीलिंग के साथ एक एकीकृत डिज़ाइन का उपयोग करता है, जो लंबे समय तक संचालन के दौरान स्थिरता सुनिश्चित करता है।
G3 स्टैंडर्ड गैल्वो स्कैनर एक उच्च-गति, स्थिर और अत्यधिक सटीक ऑप्टिकल स्कैनिंग मॉड्यूल है, जिसका व्यापक रूप से लेज़र सामग्री मार्किंग, लेज़र कटिंग, लेज़र वेल्डिंग, 3D प्रिंटिंग, लेज़र क्लीनिंग, फ़्लाइट केबल कंड्यूट सामग्री, तेज़ QR कोड स्कैनिंग आदि जैसे अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है। यह मध्यम से लेकर उच्च-स्तरीय अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।
G3 बेस गैल्वो स्कैनर एक बहुमुखी ऑप्टिकल स्कैनिंग मॉड्यूल है जिसमें उत्कृष्ट लागत-प्रभावशीलता और अच्छी प्रोसेसिंग क्षमता है। इसका व्यापक रूप से लेज़र सामग्री मार्किंग, लेज़र कटिंग, लेज़र वेल्डिंग, 3D प्रिंटिंग, लेज़र क्लीनिंग जैसे उद्योगों में उपयोग किया जाता है, और यह मानक लेज़र प्रोसेसिंग अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।
उत्पाद चित्र
जी3 अल्ट II
जी3 स्टैंडर्ड
जी3 बेस
विशेष विवरण
| विन्यास | ||
| स्कैनर | इनपुट व्यास | 10 मिमी |
| ट्रैकिंग त्रुटि | 0.11 एमएस | |
| अंकन गति | 8000 मिमी/सेकंड | |
| स्थिति निर्धारण गति | 15000 मिमी/सेकंड | |
| 1% पूर्ण पैमाने | 0.26 एमएस | |
| 10% पूर्ण पैमाने | 0.62 एमएस | |
| repeatability | < 2 μrad | |
| लाभ बहाव | < 100 पीपीएम/के | |
| ऑफसेट बहाव | < 25 μrad/K | |
| 8 घंटे से अधिक बहाव | < 0.1 एमआरएडी | |
| nonlinearity | < 0.4% | |
| स्कैन कोण | ± 0.35 रेडियन | |
| इंटरफ़ेस | एक्सवाई2 - 100 | |
| वेवलेंथ | 10600 एनएम, 1064 एनएम, 532 एनएम, 355 एनएम | |
| बुनियादी | शक्ति | ± 15 वी डीसी, 5 ए |
| वज़न | 2100 ग्राम | |
| कार्य तापमान | 25 ± 10° सेल्सियस | |
| विन्यास | ||
| स्कैनर | इनपुट व्यास | 10 मिमी |
| ट्रैकिंग त्रुटि | 0.11 एमएस | |
| अंकन गति | 10000 मिमी/सेकंड | |
| स्थिति निर्धारण गति | 16000 मिमी/सेकंड | |
| 1% पूर्ण पैमाने | 0.26 एमएस | |
| 10% पूर्ण पैमाने | 0.62 एमएस | |
| repeatability | < 2 μrad | |
| लाभ बहाव | < 100 पीपीएम/के | |
| ऑफसेट बहाव | < 25 μrad/K | |
| 8 घंटे से अधिक बहाव | < 0.15 एमआरएडी | |
| nonlinearity | < 1% | |
| स्कैन कोण | ± 0.35 रेडियन | |
| इंटरफ़ेस | एक्सवाई2 - 100 | |
| वेवलेंथ | 10600 एनएम、1064 एनएम、532 एनएम、355 एनएम | |
| बुनियादी | शक्ति | ± 15 वी डीसी, 3 ए |
| वज़न | 1800 ग्राम | |
| कार्य तापमान | 25 ± 10° सेल्सियस | |
| विन्यास | ||
| स्कैनर | इनपुट व्यास | 10 मिमी |
| ट्रैकिंग त्रुटि | 0.2 एमएस | |
| अंकन गति | 5000 मिमी/सेकंड | |
| स्थिति निर्धारण गति | 10000 मिमी/सेकंड | |
| 1% पूर्ण पैमाने | 0.32 एमएस | |
| 10% पूर्ण पैमाने | 1.2 एमएस | |
| repeatability | <2 μrad | |
| लाभ बहाव | < 150 पीपीएम/के | |
| ऑफसेट बहाव | < 50 μrad/K | |
| 8 घंटे से अधिक बहाव | < 0.2 एमआरएडी | |
| nonlinearity | < 1% | |
| स्कैन कोण | ± 0.35 रेडियन | |
| इंटरफ़ेस | एक्सवाई2 - 100 | |
| वेवलेंथ | 10600 एनएम、1064 एनएम、532 एनएम、355 एनएम | |
| बुनियादी | शक्ति | ± 15 वी डीसी, 3 ए |
| वज़न | 1800 ग्राम | |
| कार्य तापमान | 25 ± 10° सेल्सियस | |
