2D Galvo Scanner Laser Marking |ផ្សារដែក |កាត់ |សំអាត |ស៊េរី G3
ការពិពណ៌នា និងការណែនាំ
G3 Ult II Galvo Scanner ទទួលយកវិធានការប្រឆាំងនឹងការជ្រៀតជ្រែកជាច្រើន ដោយផ្តល់នូវប្រព័ន្ធការពាររឹងមាំ ភាពជឿជាក់ខ្ពស់ បន្ទាត់ល្អ ភាពអាចធ្វើម្តងទៀតបានខ្ពស់ និងពេលវេលាឆ្លើយតបខ្លី។ប្រព័ន្ធនេះប្រើប្រាស់ការរចនារួមបញ្ចូលគ្នាជាមួយនឹងទំហំតូច ទម្ងន់ស្រាល និងការផ្សាភ្ជាប់ដ៏ល្អឥតខ្ចោះ ធានាបាននូវស្ថេរភាពក្នុងអំឡុងពេលប្រតិបត្តិការយូរ។
G3 Std Galvo Scanner គឺជាម៉ូឌុលស្កែនអុបទិកដែលមានល្បឿនលឿន ស្ថេរភាព និងត្រឹមត្រូវខ្ពស់ ដែលត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងកម្មវិធីដូចជា ការសម្គាល់សម្ភារៈឡាស៊ែរ ការកាត់ឡាស៊ែរ ការផ្សារឡាស៊ែរ ការបោះពុម្ព 3D ការសម្អាតឡាស៊ែរ សម្ភារៈបំពង់ហោះហើរ កូដ QR រហ័ស។ ការស្កេន និងច្រើនទៀត។វាស័ក្តិសមសម្រាប់សេណារីយ៉ូកម្មវិធីពាក់កណ្តាលដល់កម្រិតខ្ពស់។
G3 Base Galvo Scanner គឺជាម៉ូឌុលស្កែនអុបទិកដ៏សម្បូរបែប ជាមួយនឹងប្រសិទ្ធភាពចំណាយដ៏ល្អឥតខ្ចោះ និងដំណើរការដំណើរការល្អ។វាត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្មដូចជាការសម្គាល់សម្ភារៈឡាស៊ែរ ការកាត់ឡាស៊ែរ ការផ្សារឡាស៊ែរ ការបោះពុម្ព 3D ការសម្អាតឡាស៊ែរ និងសមរម្យសម្រាប់កម្មវិធីដំណើរការឡាស៊ែរស្តង់ដារ។
រូបភាពផលិតផល
G3 Ult II
G3 Std
មូលដ្ឋាន G3
លក្ខណៈបច្ចេកទេស
| ការកំណត់រចនាសម្ព័ន្ធ | ||
| ម៉ាស៊ីនស្កេន | អង្កត់ផ្ចិតបញ្ចូល | 10 ម។ |
| កំហុសក្នុងការតាមដាន | 0.11 ms | |
| ល្បឿនសម្គាល់ | 8000 mm/s | |
| ល្បឿនកំណត់ទីតាំង | 15000 mm/s | |
| 1% មាត្រដ្ឋានពេញ | 0.26 ms | |
| 10% មាត្រដ្ឋានពេញ | 0.62 ms | |
| ភាពអាចធ្វើម្តងទៀត | < 2 μrad | |
| ទទួលបាន Drift | តិចជាង 100 ppm/K | |
| អុហ្វសិត Drift | < 25 μrad/K | |
| អូសជាង ៨ ម៉ោង។ | < 0.1 mrad | |
| ភាពមិនលីនេអ៊ែរ | < 0.4% | |
| មុំស្កែន | ± 0.35 រ៉ាដ | |
| ចំណុចប្រទាក់ | XY2 - 100 | |
| រលក | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| មូលដ្ឋាន | ថាមពល | ± 15 V DC, 5 A |
| ទម្ងន់ | 2100 ក្រាម។ | |
| សីតុណ្ហភាពការងារ | 25 ± 10 ° C | |
| ការកំណត់រចនាសម្ព័ន្ធ | ||
| ម៉ាស៊ីនស្កេន | អង្កត់ផ្ចិតបញ្ចូល | 10 ម។ |
| កំហុសក្នុងការតាមដាន | 0.11 ms | |
| ល្បឿនសម្គាល់ | 10000 mm/s | |
| ល្បឿនកំណត់ទីតាំង | 16000 mm/s | |
| 1% មាត្រដ្ឋានពេញ | 0.26 ms | |
| 10% មាត្រដ្ឋានពេញ | 0.62 ms | |
| ភាពអាចធ្វើម្តងទៀត | < 2 μrad | |
| ទទួលបាន Drift | តិចជាង 100 ppm/K | |
| អុហ្វសិត Drift | < 25 μrad/K | |
| អូសជាង ៨ ម៉ោង។ | < 0.15 mrad | |
| ភាពមិនលីនេអ៊ែរ | < 1% | |
| មុំស្កែន | ± 0.35 រ៉ាដ | |
| ចំណុចប្រទាក់ | XY2 - 100 | |
| រលក | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| មូលដ្ឋាន | ថាមពល | ± 15 V DC, 3 A |
| ទម្ងន់ | 1800 ក្រាម។ | |
| សីតុណ្ហភាពការងារ | 25 ± 10 ° C | |
| ការកំណត់រចនាសម្ព័ន្ធ | ||
| ម៉ាស៊ីនស្កេន | អង្កត់ផ្ចិតបញ្ចូល | 10 ម។ |
| កំហុសក្នុងការតាមដាន | 0.2 ms | |
| ល្បឿនសម្គាល់ | 5000 mm/s | |
| ល្បឿនកំណត់ទីតាំង | 10000 mm/s | |
| 1% មាត្រដ្ឋានពេញ | 0.32 ms | |
| 10% មាត្រដ្ឋានពេញ | 1.2 ms | |
| ភាពអាចធ្វើម្តងទៀត | <2 μrad | |
| ទទួលបាន Drift | តិចជាង 150 ppm/K | |
| អុហ្វសិត Drift | < 50 μrad/K | |
| អូសជាង ៨ ម៉ោង។ | < 0.2 mrad | |
| ភាពមិនលីនេអ៊ែរ | < 1% | |
| មុំស្កែន | ± 0.35 រ៉ាដ | |
| ចំណុចប្រទាក់ | XY2 - 100 | |
| រលក | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| មូលដ្ឋាន | ថាមពល | ± 15 V DC, 3 A |
| ទម្ងន់ | 1800 ក្រាម។ | |
| សីតុណ្ហភាពការងារ | 25 ± 10 ° C | |
