• Programvara för kontroll av lasermärkning
  • Laserkontroller
  • Laser Galvo skannerhuvud
  • Fiber/UV/CO2/Grön/Picosecond/Femtosekundlaser
  • Laseroptik
  • OEM/OEM Lasermaskiner |Markering |Svetsning |Skärning |Städning |Trimning

Telecentric F-theta skanningslins Kina |355nm |532nm |1064nm...

Kort beskrivning:


Produktdetalj

Produkttaggar

Telecentrisk laser F-theta lins smält kiseldioxid och optiskt glas, 1064nm, 355nm, 532nm, 10600nm beläggning

Islagsvinkeln för den telecentriska f-theta plattfältsspegeln är hårt kontrollerad så att den utgående strålen är nästan vinkelrät mot arbetsplanet vid vilken synfältsvinkel som helst.Som ett resultat kan brännpunktens rundhet, enhetlighet (X-axeln, Y-axelns riktning) och vinkelrätheten (Z-axelns riktning) förbättras avsevärt över hela markeringsbredden.Det är därför den telecentriska f-theta-linsen har speciella fördelar vid precisionslaserbearbetning och vertikal perforering.

Produktbild

Standard F-theta Lens-Optical Glass-3
F-theta Scan Lens Kina Tillverkare 10600nm
Standard F-theta lins-optiskt glas

Specifikation

1064nm Fuced Silica
1064nm optiskt glas
355nm Fuced Silica
532nm Fuced Silica
532nm optiskt glas
1064nm Fuced Silica
Artikelnummer EFL WD Φ in Skanna vinkel Skanna fält Fläckstorlek Φ Utanför Max.IA Montera tråd
(mm) (mm) (mm) (mm) (mm) (µm) (mm) (°)
f-32T-1030-1080 32 31,79 10 ±7,6° Φ 8,5 (6 × 6) 6.2 90 1.4 M85 × 1
f-65T-1030-1080 65 80,99 10 ±16° Φ 36 (26 × 26) 12.65 90 0,58 M85 × 1
f-88T-20-1030-1080 88 120,51 20 ±9,5° Φ 28,28 (20 × 20) 8,78 120 1.3 M85 × 1
f-90T-20-1030-1080 90 101,323 20 ±17° Φ 54 (38 × 38) 35 120 1.9 M85 × 1
f-100T-1030-1080 100 142,73 14 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 120 0,59 M85 × 1
f-100T-1030-1080 100 142,73 14 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 135 0,59 M85 × 1
f-100T-14-1030-1080 100 130,44 14 ±20° Φ 72 (51 × 51) 13.9 120 0,5 M85 × 1
f-120T-1030-1080 120 168,59 10 ±24° Φ 98 (70 × 70) 23.5 120 3 M85 × 1
f-125T-14-1030-1080 125 153,27 14 ±16,5° Φ 77,7 (55 × 55) 17.39 112 2 M85 × 1
f-125T-20-1030-1080 125 153,27 20 ±18° Φ 70,7 (50 × 50) 12.17 112 1.8 M85 × 1
f-167T-1030-1080 167 215,5 14 ±20,3° Φ 120 (85 × 85) 17 140 3,69 M85 × 1
f-200T-14-1030-1080 200 296,954 14 ±20° Φ 141 (100×100) 27,82 173 2 M85 × 1
f-254T-14-1030-1080 254 376,53 14 ±18° Φ155,5(110×110) 35,3 126 5 M85 × 1
1064nm optiskt glas
Artikelnummer EFL WD Φ in Skanna vinkel Skanna fält Fläckstorlek Φ Utanför Max.IA Montera tråd
(mm) (mm) (mm) (mm) (mm) (µm) (mm) (°)
f-100T-1064 100 122,8 15 ±22° Φ 77 (55 × 55) 13 120 2.1 M85 × 1
f-125T-1064 125 139,58 20 ±21,5° Φ 109 (66 × 66) 12 120 3 M85 × 1
f-167T-1064* 167 216,23 20 ±21° Φ 125 (90 × 90) 16.5 140 4.4 M85 × 1
F-170T-30-1064 * 170 209,61 30 ±21° Φ 120 (88 × 88) 11.1 140 4.4 M102 × 1; M112
f-183T-20-1064* 183 219,63 20 ±11,5° Φ 70,7 (50×50) 17,82 113 0,8 M85 × 1
f-210T-30-1064-M95 * 210 279,63 30 ±22° Φ 161 (115×115) 13,69 188 3.3 M95×1
f-210T-30-1064-M102 * 210 279,63 30 ±21° Φ 154(108×108) 13,69 188 3.3 M102×1
f-211T-10-1064-M85 * 211 279,63 10 ±20° Φ 147(104×104) 41.1 150 4.4 M85 × 1
f-315T-14-1064B* 315 432.072 14 ±24,5° Φ 269(190×190) 43,8 270 2.3 M85 × 1
355nm Fuced Silica
Artikelnummer EFL WD Φ in Skanna vinkel Skanna fält Fläckstorlek Φ Utanför Montera tråd
(mm) (mm) (mm) (mm) (mm) (µm) (mm)
f-30T-355 30 35,347 10 ±10,5º Φ 8,5 (8 x 8) 1,95 47,4 M39 × 1
f-32T-355B 32 26.34 10 ±7,6º Φ 8,5 (1 x 1) 3.2 90 M85 × 1
f-60T-355 60 73,65 10 ±16º Φ 31 (22 × 22) 11.5 90 M85 × 1
f-65T-355 65 81,106 10 ±9,4º Φ 21,2 (15 x 15) 4.2 94 M85 × 1
f-70T-355 73,9 91,35 10 ±16º Φ 40 (28 x 28) 4.5 90 M85 × 1
f-100T-355 100 107,68 14 ±20,4 º Φ71 (50,8 × 50,8) 6,69 120 M85 × 1
f-100T-14-355B 100 135,475 14 ±21º Φ 70,7 (50 x 50) stråle=14 mm 5 120 M85 × 1
f-103T-355 103 136,13 12 ±20,4º Φ 72 (51 × 51) 5,58 100 M85 × 1
f-110T-355 110 153,88 8 ±24º Φ 92 (65 × 65) 8.9 120 M85 × 1
f-120T-355 120 149,107 10 ±22,5º Φ 92 (65 × 65) 8 118 M85 × 1
f-130T-355 130 159,92 10 ±19º Φ 85 (60 × 60) 8.45 120 M85 × 1
f-167T-10-355 167 211,25 10 ±24º Φ 127 (90 × 90) 10.8 130 M85 × 1
f-167T-14-355 167 234,52 14 ±18º Φ 99 (70 × 70) 7.8 140 M85 × 1
F-167T-14-355B 166,57 229,163 14 ±22º Φ 127 (90 × 90) 7.7 159 M85 × 1
f-175T-355 175 247,487 10 ±24º Φ 142 (101 × 101) 11.8 140 M85 × 1
f-295T-14-355 295 426,75 14 ±23,7º Φ244 (172 x 172) 13 280 M85 × 1
f-330T-355 330 581,581 14 ±20º Φ 245 (173 × 173) 15.3 270 M85 × 1
532nm Fuced Silica
Artikelnummer EFL WD Φ in Skanna vinkel Skanna fält Fläckstorlek Φ Utanför Max.IA Montera tråd
(mm) (mm) (mm) (mm) (mm) (µm) (mm) (°)
f-63T-510-550 63 82,1 10 ±16° Φ 33 (23 × 23) 6.2 90 1 M85 × 1
f-88T-14-510-550 88 100,63 14 ±17° Φ 52 (37 × 37) 10 120 1.9 M85 × 1
f-100T-510-550 100 142,2 10 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 120 0,38 M85 × 1
f-100T-14-510-550 100 135,402 14 ±21° Φ 70,7 (50 × 50) 7 120 1.3 M85 × 1
F-167T-14-510-550 167 232,23 14 ±21° Φ 127 (90 × 90) 11,61 140 3 M85 × 1
532nm optiskt glas
Artikelnummer EFL WD Φ in Skanna vinkel Skanna fält Fläckstorlek Φ Utanför Max.IA Montera tråd
(mm) (mm) (mm) (mm) (mm) (µm) (mm) (°)
f-100T-532 100 125,04 15 ±21,5° Φ 71 (50 × 50) 6.5 120 3.2 M85 × 1
f-110T-532 110 132,94 15 ±21,5° Φ 83 (60 × 60) 7.2 120 3.2 M85 × 1
f-170T-532 170 214,66 14 ±21,8° Φ 129 (91 × 91) 11.8 140 3 M85 × 1
f-170T-20-532 170 204,788 20 ±24° Φ 141 (100 × 100) 8,53 164 4 M102 × 1

  • Tidigare:
  • Nästa: